El FIB de plasma de iones de Xe permite corrientes de iones extremadamente altas de hasta 2 μA aumentando así la velocidad de pulverización catódica más de 50 veces en comparación con fuentes FIB de Ga convencionales. Esto predetermina a FERA3 para realizar tareas de fresado de grandes volúmenes de material que eran hasta hace poco procesos demasiado lentos o bien imposibles de realizar en la práctica.
Esta nueva generación de Microscopios Electrónicos de Barrido equipados con una columna enfocada de haz de iones ofrece a los usuarios las ventajas de la última tecnología, como son una nueva y mejorada electrónica de alto rendimiento para una adquisición más rápida de imágenes, un sistema de exploración ultra rápido con compensación de aberraciones de imagen estáticas y dinámicas o secuencias de comandos integradas para aplicaciones definidas por el usuario. Todo esto manteniendo al mismo tiempo la mejor relación costo-beneficio.
Estos sistemas fueron diseñados para satisfacer las necesidades actuales de FIB-MEB en una amplia gama de aplicaciones en la investigación y la industria. La excelente resolución a altas corrientes de haz y el potente software hacen de los FIB-MEB de TESCAN excelentes herramientas no sólo para análisis pero también para muchas otras aplicaciones en diferentes campos de la investigación y la industria.